LEF100 鐳射系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑，應(yīng)用于內(nèi)外層線路制作，特別適用于265nm和405nm激光直接成像系統(tǒng)。
特色及優(yōu)點
高解析度 -1-2 mil 線寬/線距
曝光速度快
附著力好
抗化學(xué)性好
性能穩(wěn)定
項目
|
單位
|
LEF112
|
LEF115
|
備注
|
厚度
|
μm
|
30
|
38
|
|
感度*1
|
mj/cm2
|
16
|
24
|
|
最短顯影時間
|
sec.
|
20
|
22
|
|
附著力*1*2(L/S=X/250)
|
μm
|
30
|
40
|
|
解析度*1*2（L/S=X/X）
|
μm
|
25
|
30
|
|
蓋孔孔徑
|
μm
|
//
|
6.0
|
|
*1:LEF115(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺，推薦硬化格數(shù)的中心值的曝光能量，海圣平行光曝光機制作（UVE-HSP5K-11）
*2:1wt%Na2CO3,30℃，最短顯影時間x2
*3:分辨率、解析度以及顯影后圖像。
